بررسی اثرِ دمای زیر لایه و بازپُخت بر خواصِّ ساختاری و اپتیکی لایه های نازکِ سلِنید روی رشد داده شده به روش تجزیۀ گرمایی افشانه ای

لایه­های نازکِ سلِنید روی بر روی زیر لایۀ شیشه­ای در دماهای زیر لایۀ  ºc 380 و 400 به روش تجزیۀ گرمایی افشانه­ای لایه نشانی و سپس در دمای  ºc400 بازپُخت شدند. ساختارِ نمونه­ها با استفاده از طیف­های xrd و خواصِّ اپتیکی آن ها با استفاده از طیف سنجی نوری uv-vis مورد مشخّصه یابی قرار گرفت. مطالعۀ طرحِ پراش نشان داد  که نمونه­ها قبل از بازپُخت دارای ساختارِ آمورف با اندکی فاز اکسید روی هستند امّا بعد از بازپُخت، مطالعاتِ اپتیکی نشان داد که گافِ نواری نمونه­ها کاهش و به مقدارِ گافِ نواری سلِنید روی میل می کند. نمونه با دمای زیر لایۀ  ºc 400 بعد از بازپُخت به صورتِ بس بلوری و با راستای ترجیحی (111) رشد یافته است.